氧化铝悬浮液的分散稳定性对于其在化学机械抛光（CMP）中的应用至关重要【1】。

以下是一些可能有助于提高氧化铝悬浮液分散稳定性和相应的CMP性能的方法：

1、添加分散剂：分散剂可以增加氧化铝颗粒间的相互作用力，减少颗粒的凝聚，从而提高悬浮液的分散稳定性。常用的分散剂有十二烷基苯磺酸钠、聚乙烯吡咯烷酮等。研究表明，添加1 wt%的聚乙烯吡咯烷酮可以明显提高氧化铝悬浮液的稳定性，同时也可以提高CMP的去除率和表面粗糙度。

2、调节pH值：pH值对于氧化铝悬浮液的分散稳定性和CMP性能有很大的影响。当pH值在氧化铝的等电点附近时，颗粒表面电荷中性，颗粒之间的相互作用力较小，容易聚集。因此，可以通过调节pH值来改善氧化铝悬浮液的分散稳定性和CMP性能。研究表明，在pH值为9时，氧化铝悬浮液的分散稳定性和CMP性能最佳。

3、优化氧化铝颗粒大小：氧化铝颗粒的大小也对悬浮液的分散稳定性和CMP性能有很大的影响。研究表明，平均颗粒直径为40 nm的氧化铝悬浮液具有最佳的分散稳定性和CMP性能。

4、使用超声波处理：超声波可以产生剪切力和微小气泡，从而破坏颗粒之间的凝聚，提高悬浮液的分散稳定性。研究表明，使用超声波处理可以显著提高氧化铝悬浮液的稳定性和CMP性能。

综上所述，提高氧化铝悬浮液的分散稳定性和相应的化学机械抛光性能的方法包括添加分散剂、调节pH值、优化氧化铝颗粒大小和使用超声波处理等。这些方法的选择和优化应根据具体的应用需求