碳化硅抛光粉广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的抛光和研磨加工。具体应用包括:金属材料的抛光和研磨加工、陶瓷材料的抛光和研磨加工和玻璃材料的抛光和研磨加工。
碳化硅抛光粉是一种无机非金属磨料,具有高硬度、高抛光效率、高温稳定性等特点,被广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的抛光和研磨加工。
产品介绍:
碳化硅抛光粉主要成分为碳化硅(SiC),颗粒度一般为粉末状。常用的颗粒度有0.5μm、1μm、3μm、5μm等。
产品应用:
碳化硅抛光粉广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的抛光和研磨加工。具体应用包括:
1、金属材料的抛光和研磨加工,如不锈钢、铝合金、钛合金等;
2、陶瓷材料的抛光和研磨加工,如氧化铝陶瓷、氮化硅陶瓷等;
3、玻璃材料的抛光和研磨加工,如光学玻璃、晶体玻璃等。
产品特点:
1、高硬度:碳化硅抛光粉的硬度仅次于金刚石和氮化硼,可用于高硬度材料的抛光和研磨加工;
2、高抛光效率:碳化硅抛光粉的颗粒形状规则,表面光滑,抛光效率高;
3、高温稳定性:碳化硅抛光粉具有良好的高温稳定性,适用于高温条件下的抛光和研磨加工;
4、高耐磨性:碳化硅抛光粉的颗粒硬度高,耐磨性好,可多次循环使用。
产品数据:
常见的碳化硅抛光粉颗粒度和典型数据如下表所示:
颗粒度(μm) | 硬度(Mohs) | 密度(g/cm³) | 抛光效率(g/h) |
0.5
| 9.5 | 3.2 | 1.5-2.5 |
1 | 9.5 | 3.2 | 2.0-3.0 |
3 | 9.5 | 3.2 | 3.0-4.5 |
4 | 9.5 | 3.2 | 4.5-5.0 |