抛光粉的硬度和密度对抛光效果有着直接的影响，因此在选择抛光粉时，需要考虑这些物理特性，并选择适当的硬度和密度范围的抛光粉来获得最佳的抛光效果。

以下是常见的10种抛光粉的硬度和密度数据以及简要的分析：

1、氧化铝抛光粉：硬度：9，密度：3.9克/立方厘米。氧化铝抛光粉硬度高、密度适中，常用于金属、玻璃、陶瓷等硬度较高的材料的抛光，具有磨削速度快、效率高、表面粗糙度低的优点。

2、碳化硅抛光粉：硬度：9-9.5，密度：3.2-3.2克/立方厘米。碳化硅抛光粉硬度较高，密度适中，常用于金属、玻璃、陶瓷等材料的抛光，可以获得光滑的表面和较高的光泽度。

3、氧化钇抛光粉：硬度：5-6，密度：4.5克/立方厘米。氧化钇抛光粉密度较高，硬度适中，常用于抛光不锈钢、铜、铝等材料，具有磨削速度快、表面粗糙度低的优点。

4、氧化铈抛光粉：硬度：5-6，密度：6.0克/立方厘米。氧化铈抛光粉密度较高，硬度适中，适合用于玻璃、陶瓷等材料的抛光，可以获得较高的光泽度。

5、硅胶抛光粉：硬度：6-7，密度：1.2-1.8克/立方厘米。硅胶抛光粉密度较低，硬度适中，常用于塑料、树脂等材料的抛光，具有磨削速度快、表面光洁度高的优点。

6、氢氧化铝抛光粉：硬度：3.5-4.5，密度：2.4克/立方厘米。氢氧化铝抛光粉密度较低，硬度适中，常用于抛光硬度较低的材料，如玻璃纤维、亚克力等，可以获得光滑的表面和较高的光泽度。

7、钛酸锶抛光粉：硬度：7-8，密度：3.8-4.0克/立方厘米

8、二氧化硅抛光粉：硬度：7，密度：2.65克/立方厘米。二氧化硅抛光粉密度适中，硬度较高，常用于半导体、石英等材料的抛光，可以获得光滑的表面和较高的光泽度。

9、硝酸铈抛光粉：硬度：3.5，密度：3.9克/立方厘米。硝酸铈抛光粉密度适中，硬度较低，常用于不锈钢、铝、铜等材料的抛光，可以获得较高的光泽度。

10、磷酸铝抛光粉：硬度：3-4，密度：2.3克/立方厘米。磷酸铝抛光粉密度较低，硬度适中，常用于抛光塑料、亚克力、PMMA等材料，可以获得光滑的表面和较高的光泽度。

总的来说，抛光粉的硬度和密度对于不同的材料抛光有不同的选择。密度较高的抛光粉适合用于抛光硬度较高的材料，密度较低的抛光粉则适合用于抛光硬度较低的材料。而硬度则取决于被抛光材料的硬度，一般要选择硬度比被抛光材料稍高的抛光粉，这样可以获得较高的抛光效果。