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依夫纳米抛光材料

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欢迎来到我们的抛光新闻详情专页,今天我们将为您介绍最新的抛光材料 - 纳米材料三氧化二铝、氧化铈和氧化硅。这些纳米材料已经成为现代抛光行业的主流,它们的出现将为您带来更高效、更持久的抛光效果。

广泛应用于金相抛光,不锈钢镜面抛光,钛金属抛光,铸铁抛光,铝材镜面抛光,大理石石材镜面抛光,油漆抛光,树脂抛光,等领域

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气相合成氧化铈抛光粉是一种高纯度的氧化铈粉末

气相合成氧化铈抛光粉具有高纯度、粒度均匀、抛光效率高、粘附性好、操作方便等特点,是一种广泛应用于高精度抛光、磨削加工。能够提高加工效率和材料利用率,同时也能够提高加工件的表面光洁度和精度,提高加工质量和性能。
来源: | 作者:抛光行家 | 发布时间: 2023-02-20 | 216 次浏览 | 分享到:

气相合成氧化铈抛光粉是一种高纯度的氧化铈粉末,以氧化铈为主要成分,采用先进的气相合成工艺生产而成,具有高纯度、均匀粒度和优异的物理化学性能,被广泛应用于高精度抛光、磨削加工等领域。


产品应用:

1、光学器件加工:气相合成氧化铈抛光粉能够用于光学透镜、光学玻璃、晶圆、平板显示器、LED等高精度光学器件的抛光加工,能够有效提高光学器件的表面光洁度和精度。

2、硬质材料加工:气相合成氧化铈抛光粉能够用于石英、蓝宝石、硬质合金等硬质材料的抛光加工,能够提高硬质材料的表面光洁度和抗磨损性。

3、金属加工:气相合成氧化铈抛光粉能够用于铝、不锈钢、镍基合金等金属材料的抛光加工,能够提高金属材料的表面光洁度和耐腐蚀性。

4、陶瓷加工:气相合成氧化铈抛光粉能够用于氧化铝、氧化锆等陶瓷材料的抛光加工,能够提高陶瓷材料的表面光洁度和耐磨性。

5、半导体加工:气相合成氧化铈抛光粉能够用于半导体材料的抛光加工,能够提高半导体器件的表面光洁度和精度。


产品参数:

化学成分:CeO2≥99.95%

晶型:立方晶系

粒度分布:平均粒度0.3-0.5μm

比表面积:≥12m2/g

稠度:0.25-0.35g/cm3


产品特点:

1、高纯度:气相合成氧化铈抛光粉具有极高的纯度,能够有效避免杂质、污染等因素对加工效果的影响。

2、粒度均匀:气相合成氧化铈抛光粉具有较为均匀的粒度分布,能够提供稳定的抛光效果。

3、抛光效率高:气相合成氧化铈抛光粉具有较高的硬度、磨削能力和磨削效率,能够有效提高抛光效率。

4、粘附性好:气相合成氧化铈抛光粉表面经过特殊处理,具有较好的粘附性能,能够稳定地附着在磨料表面,从而提高抛光精度。

5、操作方便:气相合成氧化铈抛光粉易于操作,使用方便,能够有效控制抛光过程,提高加工效率和材料利用率。


综上所述,气相合成氧化铈抛光粉具有高纯度、粒度均匀、抛光效率高、粘附性好、操作方便等特点,是一种广泛应用于高精度抛光、磨削加工。能够提高加工效率和材料利用率,同时也能够提高加工件的表面光洁度和精度,提高加工质量和性能。