抛光材料的颗粒度大小是影响抛光效果的重要因素之一。不同颗粒度的抛光材料可以对材料表面进行不同程度的磨削和去除，从而影响表面的光泽度、平整度和精度。以下是不同抛光材料在不同颗粒度大小下的抛光特点：

1、碳化硅抛光材料：碳化硅是一种硬度很高的磨料材料，通常用于金属和非金属材料的粗磨和中磨。在粗磨阶段，一般选择60-100号的碳化硅颗粒；在中磨阶段，一般选择180-240号的颗粒。

2、氧化铝抛光材料：氧化铝是一种常用的抛光材料，通常用于金属和非金属材料的中磨和精磨。在中磨阶段，一般选择180-240号的氧化铝颗粒；在精磨阶段，一般选择320-800号的颗粒。

3、钨酸盐抛光材料：钨酸盐是一种高效的超精密抛光材料，通常用于光学元件、半导体晶片等高精度材料的抛光。在超精抛光阶段，一般选择0.05-0.3微米的钨酸盐颗粒。

4、球形纳米氧化硅抛光液：球形纳米氧化硅是一种非常细小、均匀的抛光材料，通常用于高精度元件的超精密抛光。在超精抛光阶段，一般选择5-30纳米的球形纳米氧化硅颗粒。

需要注意的是，不同的材料和不同的表面质量要求可能需要不同颗粒度的抛光材料。选择合适的抛光材料颗粒度大小，需要根据实际情况进行调整，以获得最佳的抛光效果。同时，还需要根据抛光过程中的磨削压力、速度、抛光液的配比等因素进行综合考虑，以达到最佳的抛光效果。